相控陣缺陷尺寸測(cè)量的問(wèn)題

在研究相控陣聚焦法則的原理時(shí)，發(fā)現(xiàn)在線掃或在扇掃圖像上直接測(cè)量缺陷的二維尺寸，可能不精確的問(wèn)題，如圖：發(fā)射聲束為黑色線，合成聲束為粗的一條紅線，缺陷偏離合成聲束。雖然缺陷偏離合成聲束，但是缺陷的反射回波仍然可以被探頭接收，所以合成的聲束信息里也包括缺陷的信息。這樣，不管是扇掃圖像，抑或是線掃圖像，如果缺陷不在發(fā)射聲束的聚焦點(diǎn)上，則缺陷的尺寸就有可能被放大，因此在扇掃圖像或者線掃圖像測(cè)量缺陷的長(zhǎng)度或?qū)挾染蜁?huì)存在較大的誤差。歡迎大家參與這個(gè)問(wèn)題的討論，在扇掃或線掃的圖像上能否對(duì)缺陷的尺寸進(jìn)行測(cè)量，測(cè)量的誤差有多大？

當(dāng)然可以對(duì)缺陷定量，誤差嘛，不好說(shuō)，很多因素影響，例如校準(zhǔn)的好壞等

估計(jì)你是搞電子或者軟件背景的吧。
建議從空間聲場(chǎng)分布的角度來(lái)考慮問(wèn)題。
分辨率和電子聚焦之間的關(guān)系。

如果不是使用特征點(diǎn)測(cè)量的方法（例如尖端衍射信號(hào)）的話，誤差會(huì)很大。缺陷在相控陣掃描圖像上的成像跟很多因素有關(guān)，比如波束的擴(kuò)散特性，角度的準(zhǔn)確性，缺陷的走向等。個(gè)人不認(rèn)為這些成像顯示能直接進(jìn)行缺陷定量測(cè)量，很簡(jiǎn)單的道理，同樣的一個(gè)缺陷，如用大角度部分去測(cè)，和用小角度部分去測(cè)，很可能得出完全不同的大小。

謝謝大家的分享意見，也就是說(shuō)，其實(shí)相控陣所成的圖像還不能真正反映缺陷的輪廓情況，換句話說(shuō)，很難根據(jù)相控陣圖像對(duì)缺陷進(jìn)行定性。

furulong 發(fā)表于 2013-5-17 15:29
謝謝大家的分享意見，也就是說(shuō)，其實(shí)相控陣所成的圖像還不能真正反映缺陷的輪廓情況，換句話說(shuō)，很難根據(jù)相 ...

如果相控陣很難對(duì)缺陷定性，那常規(guī)超聲就更難。

{:soso_e163:}

我還是一頭霧水，我這樣理解正確嗎？相控陣技術(shù)也并不能很精確地對(duì)缺陷進(jìn)行定量，在對(duì)缺陷進(jìn)定量時(shí)，比如運(yùn)用端點(diǎn)6dB法，，其實(shí)和常規(guī)是一樣的。是不是這樣理解？望各位牛人解答疑惑