交流磁軛法只能用于檢測表面開口缺陷么？

luolang1314 發表于 2016-1-5 10:47
翻了下ASME V 2013 中文版及英文版，均沒有找到只能檢測表面開口缺陷的敘述。不知道梁老指的是哪一節？在第 ...

能不能發我一份，謝謝！[email protected]

吹哥來了 發表于 2016-1-6 14:02
能不能發我一份，謝謝！

論壇就有下載的。文件太大，我試圖給壇友發送過，發送失敗。
只有在本論壇搜索就可以得到。如果有任何問題，可以聯系我。我可以給一個鏈接。

網速太慢沒法下載來看下，無論其它資料還是我們自己平時做的測試來看，我覺的應該不會是這樣。

但看到梁老這個問題，我倒是想起我們新的NBT47013對MT檢出范圍規定是表面開口和近表面缺陷，以前我們的教材和標準都是表面和近表面。。  表面開口缺陷和表面缺陷我覺的是一回事，只是為了和國外標準接軌更改了一下而已，既然是表面的缺陷，那肯定都是開口的啊，不存在表面閉合缺陷，如果閉合那就在近表面了。

我見過的檢測近表面的缺陷示意照片，：
用的是直流+紅色干磁粉  

表面閉合缺陷，以前干活時沒有遇到過，只有在特檢培訓教材上提到過：
噴砂件的檢驗，不允許PT，只能MT

查 SE 709   ASME 卷5    頁面截圖我發上來了，近表面檢測，電流波形有要求，全波整流，半波整流

15年版和13年版一樣，都引用的ASTM SE 709   08版

檢測近表面缺陷,對磁軛電源波形有要求,不能因此說明規范明確規定:磁軛法只能適合檢測表面開口缺陷。我在提問時，有意明確"交流磁軛"，既使這樣，問題的回答，也應該是否定的！

我認為:磁粉檢測缺陷的位置，有表面和近表面兩個術語，就夠了。至于缺陷是否有開口，不必管它，那是滲透檢測應該關心的。幾年前，我在遠東網以"李濟科"名字寫過"表面和近表面術語學習筆記"，有過探討，但不深不透，不好。

磁粉檢測的人工缺陷試樣，幾乎全是埋藏試樣，即正面不開口的。2015年第12期許遵言等先生的文章，表1和表2的顯示槽或孔深,均指埋藏深度，并非缺陷自身高度。從這一點來看，表1和表2說明，交流磁軛法也可檢出表面不開口的埋藏缺陷。當然，換成觸頭法或使用整流電源，效果自然更好。感謝許遵言先生給我們提供了這多試驗結果，讓我們分享。

梁金昆 發表于 2016-1-8 10:53
磁粉檢測的人工缺陷試樣，幾乎全是埋藏試樣，即正面不開口的。2015年第12期許遵言等先生的文章，表1和表2的 ...

這個實驗對于TOFD檢測也有非常大的意義：即采用磁粉檢測改善TOFD盲區，提供深度方面的依據。
為TOFD工藝優化提供基礎實驗數據。

我們這次討論，特別是結合許先生的試驗文章和tapa朋友提供的資料(SE 709   08版),
可否請羅瑯先生總結一下呢？