本帖最后由 tl130408 于 2013-9-24 09:39 編輯
實(shí)驗(yàn)研究了不同磁頭飛行狀態(tài)下磁頭磁盤界面聲發(fā)射信號(hào)的特性,分析了各種情況下的聲發(fā)射信號(hào)的頻率特性,利用磁頭懸臂振動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的聲發(fā)射信號(hào)作為對(duì)比,驗(yàn)證了磁頭懸臂振動(dòng)產(chǎn)生的聲發(fā)射信號(hào)與磁頭磁盤碰撞接觸緊密相關(guān),是磁頭磁盤碰撞聲發(fā)射信號(hào)的重要來源,可以作為判斷頭盤界面接觸和碰撞的依據(jù),利用它可以提高聲發(fā)射信號(hào)對(duì)磁頭磁盤界面碰撞接觸檢測(cè)的靈敏度。
存貯位密度是磁盤的主要性能指標(biāo)之一.由經(jīng)典公式知道,位密度D滿足下面關(guān)系:1/D~((a+h)~2+(g/2)~2)~(1/2)式中a和g分別由磁層的特性和磁頭的結(jié)構(gòu)所決定.因此,提高磁盤存貯的位密度,降低磁頭的浮動(dòng)高度h是重要手段之一.事實(shí)上,經(jīng)嚴(yán)格拋光處理的磁盤表面,仍存在著妨礙磁頭浮動(dòng)高度降低的小突起.它們非常細(xì)小,以至用常規(guī)方法很難檢測(cè).用聲發(fā)射方法可以進(jìn)行檢測(cè).
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