能否通過一張階梯試塊射線底片獲得對(duì)應(yīng)射線機(jī)的曝光曲線

一般情況下，制作某臺(tái)X射線機(jī)的曝光曲線，要用不同的曝光參數(shù)對(duì)階梯試塊多次曝光，從而獲得一組或幾組射線底片，通過測(cè)各底片的黑度，來繪制KV-T曲線或E-T曲線。這樣制作曝光曲線很浪費(fèi)膠片，能否只對(duì)階梯試塊透照一次，然后通過膠片特性曲線計(jì)算獲得對(duì)應(yīng)的曝光曲線？如果可以，具體該如何做？請(qǐng)各位多多指點(diǎn)！

看不懂，感覺不適用

學(xué)習(xí)學(xué)習(xí)

    可以，但是不精確。
    如果想得到一個(gè)精確的曝光曲線，可參考《無損探傷》2009年第3期、第4期、第5期（連載3期）《由EXCEL繪制和應(yīng)用X射線曝光曲線》。

看看，了解                                         

過來學(xué)習(xí)了

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看看了解

兩點(diǎn)一線，太多數(shù)據(jù)也不可能太精確，個(gè)人認(rèn)為是一參考值

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