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標(biāo)題: 伽馬射線曝光時(shí)間對(duì)像質(zhì)的影響 [打印本頁]
          

          
作者: 丁偉臣    時(shí)間: 2017-5-15 07:10
          
標(biāo)題: 伽馬射線曝光時(shí)間對(duì)像質(zhì)的影響
          兩天前一朋友電話我描述了如下情形，請(qǐng)感興趣的朋友參與討論：
          
同樣的膠片系統(tǒng)（包括底片及暗室處理），對(duì)同一透照布置（滿足標(biāo)準(zhǔn)要求前提）采用60居里透照20分鐘獲得的底片清晰程度肉眼可見比10居里2小時(shí)獲得底片高！
          
探討：
          
1、現(xiàn)象解釋
          
2、相應(yīng)內(nèi)容在標(biāo)準(zhǔn)中是否需要進(jìn)行規(guī)定，比如伽馬射線透照最大曝光時(shí)間
          
作者: liuhonghui    時(shí)間: 2017-5-15 11:16
          
曝光的過程實(shí)際上是一個(gè)化學(xué)反應(yīng)過程。任何化學(xué)反應(yīng)都是可逆的，只是可逆的程度不同而已，我認(rèn)為，曝光的膠片應(yīng)盡快沖洗，不然會(huì)潛影衰退。
          





          

          

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