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標(biāo)題: 關(guān)于磁軛磁極間距的問題 [打印本頁]
作者: 李濟(jì)科 時(shí)間: 2014-6-10 10:05
標(biāo)題: 關(guān)于磁軛磁極間距的問題
本帖最后由 李濟(jì)科 于 2014-6-11 15:00 編輯
《承壓設(shè)備無損檢測 學(xué)習(xí)指南》第194頁（第4篇第2章十四磁軛法）有下列敘述：“JB/T4730-2005將最小磁極間距擴(kuò)大到75，與ASME規(guī)范一致?！?/font>
筆者手頭有2010年版的ASME V ，筆者未從該書第7章、第25章找到關(guān)于磁軛磁極間距的規(guī)定。也許，筆者老眼昏花，未找到地方，望MT專家不吝賜教。
作者: 王緒軍 時(shí)間: 2014-6-11 21:47
我看了ASME V -2007也沒有，EN有規(guī)定！
作者: 李濟(jì)科 時(shí)間: 2014-6-12 09:22
謝謝王緒軍先生！
作者: 李濟(jì)科 時(shí)間: 2014-6-12 09:38
本帖最后由 李濟(jì)科 于 2014-6-12 10:12 編輯
ASME v 對(duì)磁極間距為什么沒做具體規(guī)定？比如我國的75--200mm？是ASME V 疏漏，還是另有深意？福州張先生提出小徑管MT問題，對(duì)ASME V就沒有75mm下限了，一切以靈敏度試片和提升力決定(當(dāng)然，也要防止磁極吸引磁粉掩蓋有用顯示)。我認(rèn)為該措施，對(duì)小件反倒靈活。望壇友賜教！
作者: 賀樹春 時(shí)間: 2014-6-12 11:57
學(xué)習(xí)了，平時(shí)只知道間距是75~200MM。但是我檢測某些結(jié)構(gòu)較為不規(guī)則的會(huì)小于75間距，哪時(shí)候我是已靈敏度試片為準(zhǔn)。
作者: 王緒軍 時(shí)間: 2014-6-13 20:59
我覺得是另有深意！
作者: Endlesslove 時(shí)間: 2014-6-14 08:01
學(xué)習(xí)了
作者: 福州張 時(shí)間: 2014-6-19 10:48
雖然從理論上來說，磁軛的磁極附近（距磁極25mm范圍內(nèi)）磁力線密度過大，易產(chǎn)生非相關(guān)顯示，從而干擾相關(guān)顯示。但是小徑管MT時(shí)，為什么標(biāo)準(zhǔn)試片上的人工缺陷磁痕能夠清晰顯示呢（參以前發(fā)布的照片）？筆者認(rèn)為：究其原因，是由于小徑管曲率半徑較小，跟磁極的接觸面積較小，不像平板那樣是平面接觸（接觸面大），使得由磁極進(jìn)入小徑管表層的磁力線（用AC磁化）比平板的要少得多，這也就降低了進(jìn)入管子表面的磁通量，從而抵消了因“磁極附近磁力線密度過大”而造成的上述不利影響。
事物本身有其普遍性，也有其特殊性，標(biāo)準(zhǔn)上的只是MT的一般的普遍要求。特殊情況，特殊處理。標(biāo)準(zhǔn)試片的功能之一，用于檢驗(yàn)磁化方法的正確與否，它小巧玲瓏、攜帶方便、快速好用，避免了煩雜的計(jì)算，便于檢測現(xiàn)場使用。筆者認(rèn)為：小徑管在進(jìn)行AC磁化時(shí)，只要①提升力≥45N（磁極與工件表面間隙0.5mm）②只要標(biāo)準(zhǔn)試片上的人工缺陷磁痕能夠清晰顯示，即可有效地進(jìn)行MT。
作者: 梁金昆 時(shí)間: 2014-7-3 10:59
同意張先生評(píng)論！
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